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前处理腐蚀清洗机
前处理腐蚀清洗机:⑴本设备适用于2″~8″石英炉管的清洗，同时也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物。⑵酸水清洗同槽先后进行，为滚动浸泡式清洗，人工装、取工件。⑶根据客户要求可同时清洗两种规格的石英炉管。⑷其结构主要由清洗槽、溢流排放槽、本体、工件支撑及旋转驱动机构...
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液晶腐蚀减薄清洗机
液晶腐蚀减薄清洗机⑴整机采用德国/合资进口磁白色PP板焊接而成，本机每槽可同时清洗2（非标）个花篮。本设备外型美观，耐酸性能好，操作方便，运行可靠，是半导体生产线理想的硅片清洗设备。⑵本设备由机架部分、整机部分、槽体部分、伺服系统、及机械传动部分、电气控制系统构成。⑶工艺过程全自动，...
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半导体硅晶圆显影定影机
半导体硅晶圆显影定影机本设备可用于半导体工艺中对各种规格尺寸硅晶片进行显影和定影，整台设备均采用德国进口PP材料，经雕刻后组合焊接加工而成。双排槽构成，每排7槽（根据工艺确定），各设一套机械手，两排可同时完成相应的工序。每槽装片能力：50片/批（2花篮，25片/花篮）。 工作区洁净度：10...
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半导体单晶圆片蒸发清洗线
半导体单晶圆片蒸发清洗线本设备适用于微电子半导体各尺寸硅晶圆片的清洗腐蚀，整体设备用料为德国进口磁白色聚丙烯（PP），经雕刻后组合焊接加工而成，门板采用德国透明聚氯乙烯（PVC）；腐蚀槽采用德国自然色聚偏二氟乙烯（PVDF）；清洗槽采用德国自然色聚丙烯板（NPP）；关健部件采用进口原器件...
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微电子实验室用净化存储通风柜
微电子实验室用净化存储通风柜1.该设备为高洁净度通风保管柜，适用于半导体生产工艺过程中存放成品、半成品和材料等 。2.本设备主要由高效空气过滤 、通风机、电器控制系统、柜体、门等组成。3.柜体采用银白色喷砂电泳铝材作框架，拉丝不锈钢材料作面板，外形美观。4.工作区全部为拉丝不锈钢板， 四...
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微电子实验室用净化存储通风橱
微电子实验室用净化存储通风橱该通风橱设备为高洁净度通风保存柜，适用于微电子半导体生产工艺过程中或高校微电子实验室存放成品、半成品和材料、药品、实验室器皿等。由高效空气过滤、通风机、电器控制系统、柜体、门等组成。柜体采用德国进口磁白色防腐PP板雕刻后组合焊接加工制作而成，前面可装...
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半导体硅晶圆片边缘腐蚀机
半导体硅晶圆片边缘腐蚀机此设备采用优质不锈钢材质及德国进口工程塑料板材料焊接组合加工而成;转速可调;旋转时间可调;并且可以同时腐蚀一篮或多篮硅片;有漏液检测装置,可以根据客户要求及硅片具体尺寸大小等情况，对设备做相应调整，适合各种尺寸硅片作边缘腐蚀之用。有需求此方面设备的朋友，欢迎...
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立式半导体外延石英炉管钟罩清洗机
立式半导体外延石英炉管钟罩清洗机该设备广泛适用于各种尺寸外延石英炉管钟罩的清洗腐蚀。整体采用德国进口优质NPP 材质板材组合焊接而成，操作方式为全自动。工艺过程为：上料槽1→清洗液1浸泡→清洗石英管内外表面→上料槽2→清洗液2浸泡→清洗石英管内外表面→下料， 各...
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半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机
半导体分立器件RCA硅晶圆片湿法刻蚀清洗机 本设备适用于去除硅晶圆片工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。设备由清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机部分组成。清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。关键件均采用进口原件，...
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砷化镓腐蚀机
砷化镓腐蚀机分为电器部分、箱体部分、隔离门部分、在线加热部分、喷淋部分、喷淋装置的上下移动部分、管路部分、抽风部分。 1．本设备为柜体式，外箱体为德国磁白PP，内箱体为德国PVDF，操作面带有德国透明PVC门窗。 2．清洗满足工艺：上料→热冷DI水冲洗→下料DI水压力：/cm2DI水加热温度...
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全自动硅料清洗机
全自动硅料清洗机硅片切片后清洗设备:清洗机箱体采用德国磁白PP板（超净化车间用），清洗机分为骨架、清洗机本体、槽体部分、通风部分、管路部分、电器部分，清洗机内还配有照明灯管和可调节高度地脚的活动脚轮，外观美观实用有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
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磨片清洗台
磨片清洗台设备用于1-6"硅片的半导体清洗过程中，去除工件表面的油污及其他有机物、除胶、去金属离子等。1.设备由五大部分组成：清洗槽部分、伺服系统及机械臂部分、层流净化系统、电气控制系统、机架及整机。 2.清洗槽部分由有机溶剂槽、去离子水槽、酸槽或碱槽等组成。 3.关键件采用进口件，...
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多层金属腐蚀台
多层金属腐蚀台1．本设备为柜式，操作面带有倾斜式推拉透明PVC门窗。2．整台设备由机架部分、箱体部分、电气部分、槽体部分、管路部分、抽风部分构成。⑴整机台是由槽体部分七个槽位构成，槽体材质：石英槽一件，PVDF（德国聚偏二氟乙烯槽）二件，德国自然色聚丙烯槽（NPP）二件QDR槽二件。⑵管路部分...
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背面轻刻腐蚀清洗台
背面轻刻腐蚀清洗台本设备适用于2″~8″晶片清洗 1．概述：清洗对象：晶片/⑴超声清洗，加热清洗为单槽定时控制，到时给予结束提示音。⑵工艺过程：上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下料2．结构特点：本设备为柜体式，操作面带有透明门窗。⑴槽体...
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手动背面去胶机
手动背面去胶机⑴整机采用德国进口磁白色PP板焊接而成，本机每槽可同时清洗2个花篮。本设备外型美观，耐酸性能好，操作方便，运行可靠，是半导体生产线理想的硅片清洗设备。⑵本设备由机架部分、整机部分、槽体部分、伺服系统、及机械传动部分、电气控制系统构成。⑶工艺过程全自动，机械手在槽间转换...
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金属腐蚀台
金属腐蚀台⑴超声清洗，加热清洗为单槽定时控制，到时给予结束提示音。⑵工艺过程：上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下 料2．结构特点：本设备为柜体式，操作面带有透明门窗。⑴槽体材料为德国进口聚丙烯（磁白色PP板），焊口采用SS外包厚德国磁白色PP板，...
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衬底清洗机
衬底清洗机清洗机设备主要功能部件有：箱体部分、骨架、酸泡槽、DI水清洗槽、超声/兆声槽、石英管滚动系统、喷淋系统、机械手部分、贮藏柜、排风装置、给（排）水管路、抽风系统和电气控制系统等。采用全自动控制式,通过触摸屏设定参数来选择清洗工艺,操作便捷. 有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨...
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半导体溅射膜片清洗设备:
半导体溅射膜片清洗设备:⑴超声清洗，加热清洗为单槽定时控制，到时给予结束提示音。⑵工艺过程：上料→支离子水超声清洗→去离子水加热清洗→去离子水冲洗→ 下 料2．结构特点：本设备为柜体式，操作面带有透明门窗。⑴槽体材料为德国进口聚丙烯（磁白色PP板），焊口采用SS外包厚德国...
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光刻腐蚀清洗机
光刻腐蚀清洗机清洗机设备主要功能部件有：箱体部分、骨架、酸泡槽、DI水清洗槽、超声/兆声槽、石英管滚动系统、喷淋系统、机械手部分、贮藏柜、排风装置、给（排）水管路、抽风系统和电气控制系统等。采用全自动控制式,通过触摸屏设定参数来选择清洗工艺,操作便捷. 有需求此方面设备的朋友，欢迎来...
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硼扩散清洗台
硼扩散清洗台硅片切片后清洗设备:清洗机箱体采用德国磁白PP板（超净化车间用），清洗机分为骨架、清洗机本体、槽体部分、通风部分、管路部分、电器部分，清洗机内还配有照明灯管和可调节高度地脚的活动脚轮，外观美观实用有需求此方面设备的朋友，欢迎来电咨询：010-83270202/13910297918/耿彪
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